LVS和DRC檢查有什么區(qū)別?芯片設(shè)計為什么需要這兩道 “關(guān)卡”?
在芯片設(shè)計的世界里,LVS(Layout vs Schematic,版圖與原理圖一致性檢查)和 DRC(Design Rule Check,設(shè)計規(guī)則檢查)是確保芯片功能正確和可制造性的兩大核心驗證步驟。這兩者如同建筑工程中的 “圖紙核對” 與 “施工規(guī)范檢查”,雖目標(biāo)不同,但共同守護著芯片從設(shè)計到量產(chǎn)的生命線。本文將用通俗易懂的語言,結(jié)合實際案例,帶您深入理解它們的區(qū)別與協(xié)作。