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光罩

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光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的過程中,利用光蝕刻技術(shù),在半導(dǎo)體上形成圖型,為將圖型復(fù)制於晶圓上,必須透過光罩作用的原理,類似于沖洗照片時,利用底片將影像復(fù)制至相片上。

光罩(英文:Reticle, Mask),在制作IC的過程中,利用光蝕刻技術(shù),在半導(dǎo)體上形成圖型,為將圖型復(fù)制於晶圓上,必須透過光罩作用的原理,類似于沖洗照片時,利用底片將影像復(fù)制至相片上。收起

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    自2020年以來,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的國產(chǎn)化水平得到了飛速地提升,近日由工信部站臺推廣的ArF干式光刻機(jī)便是一例。同樣在光刻材料的國產(chǎn)化中,光罩的國產(chǎn)化也十分引人矚目。可以說在這五年里,中國大陸地區(qū)的本土光罩廠走過了從邊緣到核心,從0.13微米到14納米的蛻變和進(jìn)化。
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