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  • 2nm工藝大考倒計(jì)時(shí)
    臺(tái)積電近期表示，2nm工藝技術(shù)進(jìn)展良好，將如期在今年下半年量產(chǎn)，產(chǎn)能在今年年底前有望達(dá)到5萬(wàn)片，甚至有機(jī)會(huì)邁上8萬(wàn)片臺(tái)階。
    2nm工藝大考倒計(jì)時(shí)
  • 全球晶圓廠，進(jìn)度如何？
    晶圓廠，作為半導(dǎo)體芯片制造的核心環(huán)節(jié)，一舉一動(dòng)都牽動(dòng)著整個(gè)科技產(chǎn)業(yè)的神經(jīng)。2024 年，全球晶圓廠領(lǐng)域迎來(lái)了諸多新變化，新增數(shù)量成為各界關(guān)注的焦點(diǎn)。究竟去年有多少新晶圓廠拔地而起？它們分布在哪些區(qū)域？又將給半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)乃至全球經(jīng)濟(jì)帶來(lái)怎樣的影響？
    全球晶圓廠，進(jìn)度如何？
  • 2025年2納米晶圓廠全力加速建設(shè)
    ChatGPT之后，DeepSeek橫空出世，助力AI大模型持續(xù)升溫。AI驅(qū)動(dòng)之下，先進(jìn)制程芯片需求持續(xù)高漲。當(dāng)前3納米芯片已經(jīng)實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，為滿足未來(lái)市場(chǎng)對(duì)更先進(jìn)制程芯片的需求，多家廠商積極布局2納米晶圓廠，且目標(biāo)2025年量產(chǎn)/試產(chǎn)。隨著目標(biāo)時(shí)間臨近，2納米晶圓廠建設(shè)進(jìn)入全力加速階段。
    2025年2納米晶圓廠全力加速建設(shè)
  • 2nm，要來(lái)了
    在半導(dǎo)體制造中，2nm工藝是繼3nm工藝節(jié)點(diǎn)之后的下一個(gè)MOSFET（金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管）芯片微縮技術(shù)?！?nm”或“20埃”（英特爾使用的術(shù)語(yǔ)）與晶體管的任何實(shí)際物理特征（例如柵極長(zhǎng)度、金屬間距或柵極間距）無(wú)關(guān)。根據(jù)電氣和電子工程師協(xié)會(huì)(IEEE)發(fā)布的2021 年更新的《國(guó)際設(shè)備和系統(tǒng)路線圖》中的預(yù)測(cè)，“2.1 nm節(jié)點(diǎn)范圍標(biāo)簽”預(yù)計(jì)接觸柵極間距為 45 nm，最緊密金屬間距為 20 nm。
    2nm，要來(lái)了
  • 日本半導(dǎo)體，從“神壇跌落”
    提及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，首先想到的為頭部的歐美、韓國(guó)和中國(guó)臺(tái)灣，很少有人能想到日本，但在上世紀(jì)末，日本的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)曾一度占到全球產(chǎn)值的45%，也是當(dāng)時(shí)世界上最大的半導(dǎo)體生產(chǎn)國(guó)，全球十大半導(dǎo)體企業(yè)中，就有六個(gè)出自日本。那么，曾經(jīng)稱霸全球的日本半導(dǎo)體，為何一度從神壇跌落？讓我們從事件的時(shí)間順序來(lái)詳述。
    日本半導(dǎo)體，從“神壇跌落”
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