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讓半導(dǎo)體制程更加環(huán)境友善　imec發(fā)表量化評估方案
日前由國際光學(xué)工程學(xué)會(SPIE)舉辦的2023年先進(jìn)微影成形技術(shù)會議(2023 Advanced Lithography and Patterning Conference)上，比利時微電子研究中心(imec)展示了一套先進(jìn)IC圖形化製程的環(huán)境影響量化評估方案，并在imec.netzero模擬平臺上開發(fā)了一座虛擬晶圓廠。

新電子科技雜志?Micro-Electronics Magazine

863

2023/03/21

半導(dǎo)體制程 IMEC
imec發(fā)表創(chuàng)新PLL技術(shù)　奠定140GHz雷達(dá)應(yīng)用基礎(chǔ)
日前舉行的2023年國際固態(tài)電路會議(ISSCC)上，比利時微電子研究中心(imec)展示一款採用數(shù)位校正與充電幫浦技術(shù)的創(chuàng)新鎖相迴路(PLL)，能以低功耗產(chǎn)生高品質(zhì)的調(diào)頻連續(xù)波(FMCW)訊號，滿足毫米波雷達(dá)應(yīng)用。該電路是未來短距雷達(dá)應(yīng)用的重要構(gòu)件，包含車內(nèi)與車外感測器，以及協(xié)作機器人感測器等。

新電子科技雜志?Micro-Electronics Magazine

971

2023/03/10

IMEC
下一代EUV光刻機，關(guān)鍵技術(shù)拆解！
imec高管深度專訪：突破下一代EUV光刻機，要翻過“四堵墻”。世界頂級先進(jìn)半導(dǎo)體研究機構(gòu)比利時微電子研究中心（imec）近日發(fā)布一篇深度好文，詳細(xì)解讀了下一代EUV光刻機成像技術(shù)短期和長期的挑戰(zhàn)及創(chuàng)新方向。

芯東西

1015

2023/03/09

拆解 EUV光刻機
高速有線收發(fā)器中的光電集成電路的設(shè)計與集成
來源：《半導(dǎo)體芯科技》雜志10/11月刊

半導(dǎo)體芯科技SiSC

600

2022/12/27

電路設(shè)計集成電路設(shè)計
imec展示最新介面氧化技術(shù) 鐵電記憶體性能再升級
比利時微電子研究中心(imec)于近日舉行的2022年IEEE國際電子會議(IEDM)上，展示了一款摻雜鑭(La)元素的氧化鉿鋯(HZO)電容器，不僅將循環(huán)操作次數(shù)提高到1011次，同時具備更佳的電滯曲線，喚醒效應(yīng)亦有所改善。此次能夠?qū)崿F(xiàn)鐵電電容的多項性能升級，關(guān)鍵在于介面氧化工程技術(shù)。這項鐵電電容技術(shù)具備高性能、微縮能力與CMOS相容性，將是實現(xiàn)新一代嵌入式與獨立式鐵電隨機存取記憶體(FeRAM

新電子科技雜志?Micro-Electronics Magazine

1067

2022/12/23

電容器 IMEC

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