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EUV光刻技術(shù)

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  • 照亮半導(dǎo)體創(chuàng)新之路
    上海2024年9月5日?/美通社/ -- 全球半導(dǎo)體行業(yè)正處于爆炸性增長(zhǎng)的軌道上,預(yù)計(jì)到2030年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到驚人的1萬億美元(2023年超過5000億美元)。這種擴(kuò)張主要由微處理器的持續(xù)小型化和不斷增強(qiáng)的性能所推動(dòng)。每一代更小、更強(qiáng)大的芯片都使得全新的技術(shù)成為可能,同時(shí)也降低了現(xiàn)有應(yīng)用的成本。這創(chuàng)造了一個(gè)"良性循環(huán)",其中芯片技術(shù)的改進(jìn)帶來了新的產(chǎn)品和服務(wù),進(jìn)而推動(dòng)對(duì)更先進(jìn)半導(dǎo)體的進(jìn)一步需求。
  • 美國(guó)官方報(bào)告:深度解析EUV光刻的現(xiàn)狀、需求和發(fā)展
    2022年,半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模約為0.6萬億美元,商業(yè)分析師預(yù)計(jì)到2030年將翻一番1.0萬億美元至1.3萬億美元。半導(dǎo)體制造業(yè)的大幅增長(zhǎng)可以在光刻工藝中體現(xiàn)出。光刻是一種圖案化過程,將平面設(shè)計(jì)轉(zhuǎn)移到晶圓基板的表面,創(chuàng)造復(fù)雜的結(jié)構(gòu),如晶體管和線互連。這是通過通過復(fù)雜的多步過程選擇性地將光敏聚合物或光刻膠暴露于特定波長(zhǎng)的光下來完成的。最近,光刻技術(shù)的進(jìn)步在生產(chǎn)最先進(jìn)的半導(dǎo)體方面創(chuàng)造了競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),使人工智能(AI)、5G電信和超級(jí)計(jì)算等最先進(jìn)的技術(shù)成為可能。因此,先進(jìn)的半導(dǎo)體技術(shù)會(huì)影響國(guó)家安全和經(jīng)濟(jì)繁榮。
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  • 【產(chǎn)業(yè)】存儲(chǔ)成焦點(diǎn),SK海力士量產(chǎn)EUV DRAM
    據(jù)韓國(guó)中央日?qǐng)?bào)日語版 7月13日?qǐng)?bào)道,SK海力士開始利用EUV光刻機(jī)生產(chǎn)第4代DRAM。繼內(nèi)存排名第三的鎂光之后,SK-海力士成了第二家量產(chǎn)第4代DRAM的廠家。
  • 南亞科:預(yù)計(jì)DRAM價(jià)格將繼續(xù)上漲
    據(jù)Digitimes報(bào)道指出,芯片制造商南亞科表示,DRAM價(jià)格將在9月份上漲,預(yù)計(jì)第三季度將繼續(xù)上漲。
  • 光刻膠國(guó)產(chǎn)化的6道坎
    材料是半導(dǎo)體大廈的地基,不過,目前中國(guó)的這一地基對(duì)國(guó)外依存度還很高。

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