• 光刻技術，有了新選擇

  光刻工藝是半導體器件制造工藝中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結構，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉移到所在襯底上。

  半導體產業(yè)縱橫

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  2024/08/08

  光刻技術 電子束

  
• 佳能豬突猛進，納米壓印取得重要進展

  日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備，該設備執(zhí)行電路圖案轉移。佳能據介紹，佳能的納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，NIL）技術可實現最小線寬14nm的圖案化，相當于生產目前最先進的邏輯半導體所需的5nm節(jié)點。此外，隨著掩模技術的進一步改進，NIL有望實現最小線寬為10nm的電路圖案，相當于2nm節(jié)點。NanoimprintLithography(NIL)，是一種新型的微納加工技術。該技術將設計并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術轉移到涂有高分子材料的硅基板上。納米壓印的分辨率由所用印模板圖形的大小決定，物理上沒有光刻中的衍射限制，納米壓印技術可以實現納米級線寬的圖形。

  芯片工藝技術

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  2023/10/16

  納米壓印技術 納米壓印光刻

  

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