• ?市場(chǎng)規(guī)模接近全球六成，我國(guó)平板顯示掩膜版產(chǎn)業(yè)仍存短板

  掩膜版又稱光罩、光掩膜，是光刻工藝中的關(guān)鍵耗材，從應(yīng)用角度看，主要分為半導(dǎo)體掩膜版和平板顯示掩膜版。隨著全球顯示產(chǎn)業(yè)進(jìn)一步向中國(guó)轉(zhuǎn)移，以及在高世代、高精度市場(chǎng)需求的帶動(dòng)下，2025年中國(guó)平板顯示掩膜版市場(chǎng)規(guī)模全球占比有望超過(guò)60%。不過(guò)業(yè)內(nèi)人士強(qiáng)調(diào)，盡管我國(guó)掩模版行業(yè)發(fā)展速度很快，但還是存在產(chǎn)業(yè)鏈斷層的情況，關(guān)鍵原材料和設(shè)備仍被掣肘。

  中國(guó)電子報(bào)

  2332

  2024/01/04

  光掩膜版 光掩膜

  
• 凸版印刷分拆成立半導(dǎo)體光掩膜公司

  近日，全球最大的獨(dú)立第三方光掩膜生產(chǎn)商日本凸版印刷株式會(huì)社宣布分拆旗下半導(dǎo)體光掩膜業(yè)務(wù)，并與投資基金 INTEGRAL合資成立一家新公司“Toppan Photomask ”。

  中國(guó)電子報(bào)

  253

  2022/04/08

  半導(dǎo)體 光掩膜
• AGC | 將擴(kuò)產(chǎn)EUV光掩模坯，2024年達(dá)目前產(chǎn)能2倍

  AGC株式會(huì)社旗下子公司AGC電子株式會(huì)社，決定擴(kuò)大用于EUV曝光的光掩膜坯產(chǎn)能。且宣布該計(jì)劃自2023年1月起開(kāi)始生產(chǎn)，并將按計(jì)劃逐步擴(kuò)產(chǎn)，到2024年AGC集團(tuán)的EUV光掩模坯產(chǎn)能將達(dá)到現(xiàn)在的兩倍。

  CINNO Research

  191

  2022/02/08

  EUV 光掩膜
• DNP成功研發(fā)5nm EUV光掩膜工藝，為半導(dǎo)體不斷細(xì)微化提供可靠支撐

  大日本印刷株式會(huì)社利用多電子光束繪制設(shè)備，研發(fā)了光掩膜的生產(chǎn)工藝，不僅可用于當(dāng)下最先進(jìn)的 EUV 光刻，還可用于 5 納米工藝。

  CINNO Research

  218

  2020/08/31

  5nm 硅晶圓
• 格芯再次賣(mài)廠，這次是光掩膜相關(guān)業(yè)務(wù)

  與非網(wǎng)8月14日訊，格芯（GlobalFoundries）宣布將旗下的光掩膜業(yè)務(wù)出售給日本Toppan公司的子公司Toppan Photomasks，這是格芯近年來(lái)出售多座晶圓廠之后再一次出售相關(guān)業(yè)務(wù)。

  與非網(wǎng)記者

  40

  2019/08/14

  晶圓廠 格芯
• 掩膜

  掩膜（Mask）是一種在各種領(lǐng)域中廣泛使用的工藝工具或材料，用于制造、加工和生產(chǎn)過(guò)程中對(duì)特定區(qū)域進(jìn)行遮蓋或保護(hù)的物品。掩膜在半導(dǎo)體制造、電子組裝、噴涂涂料、化學(xué)刻蝕等行業(yè)中扮演著重要角色，能夠幫助實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)加工、減少污染以及提高效率。

  eefocus_3901714

  6321

  2024/03/29

  光掩膜

正在努力加載...