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最新：全球光刻掩模板產(chǎn)業(yè)鏈供應(yīng)商匯總（76家）
光刻行業(yè)是真火！不僅光刻機(jī)火、光刻膠火，連帶著光刻掩模版行業(yè)也跟著受人矚目。相關(guān)行業(yè)活動(dòng)也是層出不窮我不久前剛剛發(fā)布了一版光刻掩模版及配套材料的行業(yè)供應(yīng)商信息，點(diǎn)擊量不錯(cuò)。而且還有不少朋友給予我反饋，幫我修改了幾個(gè)錯(cuò)誤，還新增了一些供應(yīng)商信息

半導(dǎo)體綜研

923

05/16 15:05

光掩膜版
光刻工藝中，什么是Binary mask和Phase Shift Mask？一次講明白！
在半導(dǎo)體光刻技術(shù)中，光掩模（Photo mask）是芯片制造的核心工具之一，其作用類(lèi)似于傳統(tǒng)照相的底片，通過(guò)控制光線透射或阻擋，將電路圖案轉(zhuǎn)移到硅片上。隨著芯片制程不斷微縮至納米級(jí)，掩模技術(shù)也在持續(xù)演進(jìn)。其中，

國(guó)芯制造

2038

05/06 16:09

光刻技術(shù) 光掩膜版
超精細(xì)金屬掩膜版FMM實(shí)現(xiàn)全國(guó)產(chǎn)化
1月2日，我國(guó)掩膜版廠商眾凌科技發(fā)布了兩項(xiàng)成果：一是"全國(guó)產(chǎn)"大寬幅FMM用Invar（因瓦合金）金屬薄帶試量產(chǎn)成功，二是大尺寸OLED用G8.6 FMM產(chǎn)品的試量產(chǎn)成功。

中國(guó)電子報(bào)

1471

01/06 12:10

FMM 光掩膜版
EUV掩膜版清洗技術(shù)挑戰(zhàn)及解決方案
EUV（極紫外光）掩膜版是現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝中關(guān)鍵的元件之一，在集成電路的光刻過(guò)程中扮演著至關(guān)重要的角色。由于EUV技術(shù)的精密性和高要求，掩膜版的質(zhì)量直接影響到最終成品的良率。而在這些技術(shù)中，清洗掩膜版是一個(gè)不可忽視的環(huán)節(jié)。盡管EUV掩膜版的清洗步驟相較于硅片的清洗流程較少，但其面臨的挑戰(zhàn)卻異常復(fù)雜，主要體現(xiàn)在顆粒去除、材料損傷、污染控制等方面。

老虎說(shuō)芯

2761

2024/12/26

EUV 光掩膜版
我國(guó)超精細(xì)金屬掩膜版材料獲得新突破
薄如蟬翼、貴過(guò)黃金的金屬光罩，OLED面板用超精細(xì)金屬掩膜版（FMM)決定著主流蒸鍍OLED的質(zhì)量和產(chǎn)量，是OLED產(chǎn)業(yè)最為重要的核心耗材。但也正因其進(jìn)入門(mén)檻很高、市場(chǎng)依賴性強(qiáng)，成為套在面板廠商頭上的隱形“魔咒”。

中國(guó)電子報(bào)

2418

2024/12/06

光掩膜版

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