1.什么叫磁控濺射

磁控濺射是一種利用在真空室中加速離子并讓它們撞擊靶材以產(chǎn)生涂層的技術(shù)。通過施加恒定的磁場，利用磁控管或網(wǎng)格，可以將離子聚焦到極小的區(qū)域內(nèi)，并且調(diào)節(jié)離子軌跡以達(dá)到想要的涂層效果。

2.磁控濺射的工作原理

在磁控濺射過程中，先將待涂覆物置于真空室內(nèi)，減少其表面吸附的氧化物和水等雜質(zhì)，然后向真空室注入某種稀有氣體（如氬氣）。隨后，在真空室內(nèi)通過電極產(chǎn)生低壓放電，將氬氣離子化并加速，最終撞擊靶材形成涂層。

3.磁控濺射的優(yōu)點(diǎn)

與傳統(tǒng)的涂層技術(shù)相比，磁控濺射具有以下優(yōu)點(diǎn)：

• 可以在較低的溫度下操作，不會(huì)對涂覆物造成損傷；
• 可以選擇不同的靶材和稀有氣體以獲得不同的涂層效果；
• 涂層密實(shí)、致密，附著力強(qiáng)，且具有良好的耐腐蝕性能；
• 可以在復(fù)雜形狀的產(chǎn)品表面進(jìn)行涂層，而傳統(tǒng)噴涂技術(shù)則很難實(shí)現(xiàn)。