12nm芯片和14nm芯片都屬于先進(jìn)制造工藝的產(chǎn)品，但12nm芯片是在14nm芯片制程的基礎(chǔ)上進(jìn)行的改進(jìn)，通過有效縮小晶體管尺寸和提升電流密度等方式，實(shí)現(xiàn)了更高的集成度和性能水平。12nm芯片的歷史開始可以追溯到2017年，那時(shí)像三星、臺(tái)積電、格芯等芯片制造商已經(jīng)成功推出了該工藝制程的樣品。

1.12nm芯片是什么時(shí)候開始生產(chǎn)的

雖然12nm芯片的概念可以追溯到更早，但它真正應(yīng)用于芯片制造領(lǐng)域還是要從2017年開始算。當(dāng)時(shí)，三星在其Galaxy S8手機(jī)中首次采用了12nm FinFET工藝，這標(biāo)志著12nm芯片的商業(yè)化應(yīng)用正式拉開了帷幕。隨后，臺(tái)積電、格芯等制造商也相繼推出了自己的12nm工藝。

2.14nm和12nm芯片能耗差多少

根據(jù)相關(guān)數(shù)據(jù)，12nm芯片在同等性能下的功耗要比14nm芯片低約15%。這主要得益于12nm工藝對(duì)晶體管尺寸的縮小和結(jié)構(gòu)上的改進(jìn)，使得單個(gè)晶體管可以承受更高的電流密度，從而實(shí)現(xiàn)了更高的能效。