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X-FAB與萊布尼茨IHP研究所達成許可協(xié)議 推出創(chuàng)新的130納米SiGe BiCMOS平臺

2022/09/13
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全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)與萊布尼茨IHP研究所今日共同宣布,將推出創(chuàng)新的130納米SiGe BiCMOS平臺,進一步擴大與萊布尼茨高性能微電子研究所(IHP)的長期合作關系。作為新協(xié)議的一部分,X-FAB將獲得IHP的尖端SiGe技術(shù)授權(quán),將這一技術(shù)的性能優(yōu)勢帶給大批量市場的客戶群體。

130納米SiGe BiCMOS平臺

新創(chuàng)建的130納米平臺顯著加強了X-FAB的技術(shù)組合,提供了獨特的解決方案,達到滿足下一代通信要求所需的更高性能參數(shù)。受益于這項技術(shù)的領域包括Wi-Fi 6(和未來的Wi-Fi 7)接入點,以及下一代蜂窩基礎設施(特別是5G 毫米波與新興6G標準)和車對車(V2V)通信;該技術(shù)還將在+100GHz雷達系統(tǒng)的開發(fā)中發(fā)揮關鍵作用,適用于汽車和消費類應用。

這項許可協(xié)議延續(xù)了2021年啟動的合作,當時X-FAB的銅后道工藝被添加至IHP的SG13S和SG13G2前端技術(shù)中,以提高可支持的帶寬數(shù)據(jù)。關于這一創(chuàng)新的SiGe平臺,X-FAB將于2022年第四季度開始與選定的早期合作廠商開展原型開發(fā)項目。早期準入的PDK可實現(xiàn)原型設計,而量產(chǎn)將在X-FAB法國位于巴黎附近的工廠進行。

IHP科學總監(jiān)Gerhard Kahmen教授表示:“將IHP的HBTs整合至X-FAB的RF平臺,將為客戶打造真正與眾不同的SiGe BiCMOS技術(shù),這肯定會帶來切實的性能優(yōu)勢。我們雙方之間的技術(shù)轉(zhuǎn)讓,已成為工業(yè)與研究機構(gòu)攜手取得卓越成果的完美范例。”

“X-FAB和IHP在融合我們各自優(yōu)勢資源開發(fā)前沿半導體解決方案領域擁有杰出的成績;雙方針對SiGe技術(shù)的最新協(xié)議將這一實踐帶入令人興奮的全新階段?!盭-FAB RF技術(shù)總監(jiān)Greg U'Ren博士表示,“這是雙方進一步推進SiGe BiCMOS相關創(chuàng)新的起點,涵蓋了工業(yè)自動化、消費電子和車載等使用案例,將推動在未來幾年內(nèi)對通信領域的重新定義?!?/p>

縮略語:

BiCMOS ? ? ? ? ? 雙極互補金屬氧化物半導體

HBT ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?異質(zhì)結(jié)雙極型晶體管

mmW ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?毫米波

PDK ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?工藝設計套件

RF ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? 射頻

SiGe ? ? ? ? ? ? ? ? ? ? ?鍺硅

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