半導體材料，尤其是前道的耗材一直是目前一級市場投資機構比較關心和熱衷的方向。所以，我也打算整理一些這方面的數據供大家參考今天我打算把之前整理的CMP耗材的供應商數據更新發(fā)布一下

CMP工序中主要用到的耗材有以下5種：

• 研磨漿料 Slurry
• 研磨墊 Pad
• 清洗液?pCMP Clean
• 修正盤?Conditioner
• 過濾器 Filter

目前國內相對欠缺最大的領域還是Slurry，雖然已經有不少公司在做了，但前道高端領域依舊被日本幾家供應商壟斷，短期內突破很難。其上游的原材料主要有：

磨料：二氧化硅、二氧化鈰、三氧化二鋁（根據研磨對象材料不同而定）添加劑：pH調節(jié)劑、氧化劑、表面活性劑等Pad這塊，國內鼎龍、江豐等公司已經有一定的出貨量了。其上游原材料主要是：

聚氨酯、無紡布、發(fā)泡劑等修正盤目前國內一般是研磨墊供應商同時做了。國內市場上外資供應商中韓國Saesol據說市占率較大過濾器這塊供應商比較集中，國外主要是Entegris和PALL，國內是科百特一家獨大，還有一家我名字忘了，麻煩有知道的朋友提醒我一下，謝謝

以下是所有我知道的供應商的列表。麻煩大家參考的同時，也幫我看看還有哪些錯漏。發(fā)現任何問題，請務必和我聯(lián)系，謝謝支持了